上榜理由
集海外成掌电控路刻蚀和清洗工艺的关键材料，85% 的市场份额被不同线宽的集成电路制程工艺必须使用不同规格的超净高纯试剂进行蚀刻和清洗，其中半导体制造工艺用湿电子化学品的技术要求最高。半导体湿电子化学品的市场份额主要掌握在欧美、日本、韩国等国家的企业手中，占据全球 85% 以上的市场份额。
材料简介
湿电子化学品指为微电子、光电子湿法工艺（主要包括湿法刻蚀、湿法清洗）制程中使用的各种电子化工材料。湿电子化学品按用途可分为通用化学品（又称超净高纯试剂）和功能性化学品（以光刻胶配套试剂为代表）。
湿电子化学品的主要分类
技术指标
湿电子化学品按技术指标可以划分成不同的等级，适用于不同的领域。G1 等级属于低档产品，G2 等级属于中低档产品，G3 等级属于中高档产品，G4 和 G5 等级则属于高档产品。
湿电子化学品技术指标
应用领域
平板显示、半导体芯片、太阳能电池、LED 照明…
国内发展历程
行业发展目标
随着集成电路技术水平的提高，所需要湿电子化学品的纯度和洁净度要求也越高，因此满足纳米级集成电路需求的超净高纯湿电子化学品是今后的发展方向。
主要研究单位/公司
应用案例
集成电路：刻蚀工艺、清洗工艺…
